熔融的單質(zhì)硅在凝固時硅原子以金剛石晶格排列成三維空間長程有序的形式成為單晶硅。 單晶硅具有準金屬的物理性質(zhì),有較弱的導(dǎo)電性,其電導(dǎo)率隨溫度的升高而增加,有顯著的半導(dǎo)電性。超純的單晶硅是本征半導(dǎo)體。在超純單晶硅中摻入微量的ⅢA 族元素,如硼可提高其導(dǎo)電的程度,而形成p型硅半導(dǎo)體;如摻入微量的ⅤA族元素,如磷或砷也可提高導(dǎo)電程度,形成n型硅半導(dǎo)體。 單晶硅的制法通常是先制得多晶硅或無定形硅,然后用直拉法或懸浮區(qū)熔法從熔體中生長出棒狀單晶硅。
生長方法:CZ / FZ method
導(dǎo)電類型:P-type, N-type, Intrinsic
摻雜:Boron, Phosphorous, Antimony, ArsenicorNone
晶向:<100>, <111>, <110> or others
電阻率:0.001 ~50 ohm-cm (標準),
1000 ~20000 ohm-cm(高阻)
表面拋光類型:One side polished (SSP), Double sidedpolished(DSP)
表面粗糙度:PolishRa≤0.5 nm
包裝:Class 100 Clean room cleaning and vacuum nitrogen packaging
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李先生(微信同號)