物理清洗是利用力學、聲學、光學、電學、熱學的原理，依靠外來能量的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學分子組分的方法。

①機械清洗法：清掃器和刮刀清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。

②水力清洗法：低壓水力清洗（低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa）。

③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機。

電子清洗法防垢、除垢原理是：利用高頻電場改變水的分子結(jié)構(gòu)，使其防垢和除垢。當水通過高頻電場時，其分子物理結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化，原來的締合鏈狀大分子，斷裂成單個水分子，水中鹽類的正負離子被單個水分子包圍，運動速度降低，有效碰撞次數(shù)減少，靜電引力下降，無法在受熱壁式管面上結(jié)構(gòu)，從而達到防垢目的。同時由于水分子偶極矩增大，使其與鹽的正負離子（水垢分子吸合能力增大，使受熱面或管壁上的水垢變得松軟，容易脫落，產(chǎn)生了除垢的效果。

化工設(shè)備（英文名稱Chemical Equipment）是化工機械（chemicanl machinery）的一部分，化工機械包括兩部分，其一是化工機器，主要是指諸如流體輸送的風機、壓縮機、各種泵等設(shè)備，其主要部件是運動的機械，一般稱為化工機器。其二是化工設(shè)備主要是指部件是靜止的機械，諸如塔器等分離設(shè)備，容器、反應(yīng)器設(shè)備等，有時也稱為非標準設(shè)備。化工機械與其他機械的劃分不是很嚴格的，例如一些用于化工過程的機泵，也是其他工業(yè)部門采用的通用設(shè)備。同樣在化工過程中化工機器和化工設(shè)備間也沒有嚴格的區(qū)分。例如一些反應(yīng)器也常常裝有運動的機器。

鍋爐經(jīng)過長時間運行，不可避免的出現(xiàn)了水垢、銹蝕問題，鍋爐形成水垢的主要原因是給水中帶有硬度成份，經(jīng)過高溫、高壓的不斷蒸發(fā)濃縮以后，在爐內(nèi)發(fā)生一系列的物理、化學反應(yīng)，終在受熱面上形成堅硬、致密的水垢。水垢是鍋爐的“百害之首”，是引起鍋爐事故的主要原因，其危害性主要表現(xiàn)在： 浪費大量燃料:因為水垢的導(dǎo)熱系數(shù)只有鋼材的幾十分之一，所以當受熱面結(jié)垢后會使傳熱受阻，為了保持鍋爐一定的出力，就必須提高火側(cè)的溫度，從而使向外輻射及排煙造成熱損失。