硅片的化學機械拋光過程是以化學反應(yīng)為主的機械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

這兩個概念主要出半導(dǎo)體加工過程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。

蠟乳液是天然蠟與合成蠟等材料在乳化劑的作用分散于水中的一種多相體系的乳液，制備方法主要是相轉(zhuǎn)化的乳化法。 低熔點的蠟可賦予皮革表面蠟感，適度封閉粒面?zhèn)麣垼€可改善皮堆積性，防止熨燙或壓花時粘板。熔點較高的蠟乳液，則能賦予高光澤，可拋光，透明度，能用于苯胺涂飾。

蠟乳液可與加脂劑復(fù)配 在加脂劑中復(fù)配少量的乳化蠟改善和提高加脂劑的效果，通過試驗證明，向皮革加脂劑中復(fù)配1% ～ 5%的蠟乳液，可提高加脂劑的填充性能，提高加脂劑在皮纖維中的滲透性能，增加皮革的防水性能，使皮革手感滑爽、柔軟、豐滿。