氧化鈰拋光液 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。 適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

這兩個(gè)概念主要出半導(dǎo)體加工過(guò)程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。

CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題，它是可以在整個(gè)硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。

乳化蠟用作皮革光亮劑、消光劑和手感劑等 人們對(duì)皮革制品的外觀有兩大類要求，一是增加皮革光澤， 如打光革、漆革、拋光效應(yīng)革等；另一種是不要光澤感，使皮革呈現(xiàn)感、自然美。前者需要用到光亮劑，后者需要用到消光劑。選用不同的蠟乳液用于皮革頂層涂飾時(shí)，有的可增加皮革光澤感或光亮度，有的可產(chǎn)生消光作用呈現(xiàn)風(fēng)韻。產(chǎn)生光亮作用的蠟乳液粒徑要求很小，組成比較單一，在皮革表層形成一層均相且連續(xù)的蠟的薄膜，微觀上薄膜很平滑，對(duì)光波產(chǎn)生較強(qiáng)烈的反射作用，從而具有光澤感；產(chǎn)生消光作用的蠟乳液粒徑較大，在皮革表面形成一種非均相且微觀上不平整的表面，對(duì)光波產(chǎn)生強(qiáng)烈的散射作用，散射作用是消光劑產(chǎn)生消光作用的根本原因。