氧化鈰拋光液 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。 適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

這兩個(gè)概念主要出半導(dǎo)體加工過(guò)程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實(shí)的金屬光澤。性能穩(wěn)定、，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。

蠟乳液用于建筑業(yè) 作鋼筋混凝土固化劑?；炷猎诠袒^(guò)程中,如表面的水分蒸發(fā)過(guò)快,會(huì)使其凝固過(guò)程中一系列的化學(xué)反應(yīng)無(wú)法完成,并且無(wú)法達(dá)到其表面的抗壓強(qiáng)度。因此在混凝土固化期間必須防止水分蒸發(fā)過(guò)快。為此工業(yè)界開(kāi)發(fā)了一種以乳化蠟為基本原料的薄膜固化劑,采用這種固化劑后避免了不必要的表面水分蒸發(fā),并且促進(jìn)了水泥的水合作用。