LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石，在加工過程中需要對其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度，普通磨料難以對其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。

多晶金剛石拋光液 多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。 主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。

CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對拋光技術(shù)提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個問題，它是可以在整個硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。

蠟乳液用作皮革涂飾時的添加劑 在皮革涂飾劑中加入乳化蠟主要起填充涂層、改善涂層手感、耐磨、防粘及增加光澤等作用。早期主要以蜂蠟、棕櫚蠟、蟲蠟、白蠟、蒙旦蠟等為原料制備乳化蠟，這些蠟的產(chǎn)量有限，價格較高，近些年不斷有用石蠟作為主要原料制備皮革用蠟乳液的報道。以石蠟為主要原料可大大地降低蠟乳液的價格，而且使用效果并不比天然蠟差，是涂飾皮革的主要助劑，能賦予皮革特別的光亮度和蠟感。從用途上可分為軟性蠟和硬性蠟，分別用于皮革的底層、中層和頂層涂飾；從乳液的離子性質(zhì)可分為非離子型、陰離子型和陽離子型蠟乳液，可與不同離子性能的涂飾劑配伍使用；從劑型上可制成乳液型或固體乳化蠟。所有產(chǎn)品的水溶性很好，乳液穩(wěn)定，長期存放不分層、無浮蠟。能夠適用于各種皮革的涂飾，涂飾后的皮革光澤柔和自然，手感豐滿滋潤，能提高皮革表面的耐摩擦能力。