LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石，在加工過程中需要對其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度，普通磨料難以對其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。

這兩個概念主要出半導(dǎo)體加工過程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。

硅材料拋光液、藍(lán)寶石拋光液、砷化鎵拋光液、鈮酸鋰拋光液、鍺拋光液、集成電路多次銅布線拋光液、集成電路阻擋層拋光液、研磨拋光液、電解拋光液、不銹鋼電化學(xué)拋光液、不銹鋼拋光液、石材專用納米拋光液、氧化鋁拋光液、銅化學(xué)拋光液、鋁合金拋光液、鏡面拋光液、銅拋光液、玻璃研磨液、藍(lán)寶石研磨液等。

乳化蠟用作皮革光亮劑、消光劑和手感劑等 人們對皮革制品的外觀有兩大類要求，一是增加皮革光澤， 如打光革、漆革、拋光效應(yīng)革等；另一種是不要光澤感，使皮革呈現(xiàn)感、自然美。前者需要用到光亮劑，后者需要用到消光劑。選用不同的蠟乳液用于皮革頂層涂飾時，有的可增加皮革光澤感或光亮度，有的可產(chǎn)生消光作用呈現(xiàn)風(fēng)韻。產(chǎn)生光亮作用的蠟乳液粒徑要求很小，組成比較單一，在皮革表層形成一層均相且連續(xù)的蠟的薄膜，微觀上薄膜很平滑，對光波產(chǎn)生較強(qiáng)烈的反射作用，從而具有光澤感；產(chǎn)生消光作用的蠟乳液粒徑較大，在皮革表面形成一種非均相且微觀上不平整的表面，對光波產(chǎn)生強(qiáng)烈的散射作用，散射作用是消光劑產(chǎn)生消光作用的根本原因。