我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MQ.cm、15MQ.cm、10MQ. cm、2MQ. cm、0. 5MQ. cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)、標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
水質(zhì)要求：新型光電材料生產(chǎn)，加工，清洗；LCD液晶顯示器，PDP等離子顯示器，高品質(zhì)燈管顯像管，微電子行業(yè)，FPC/PCB線路板，線路板，大規(guī)模，超大規(guī)模集成電路需要大量高純水，超純水來清洗半成品，成品。隨著集成電路集成度的提高，對水質(zhì)的要求也越來越高，對超純水處理工藝和產(chǎn)品的簡單性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性和可持續(xù)性等都提出了更高的要求。
超純水制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱-→純水泵-→紫外線器->拋光混床-→精密過濾器-→用水對象(≥ 18MQ .CM) (傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MQ.CM) (工藝)
3、預(yù)處理→-級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))-→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線器→0.2或0.5μ m精密過濾器→用水對象(≥17M0. CM) (工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵-.紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器-.用水對象(三15MQ .M) (工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→混合床→紫外線器→精密過濾器→用水對象(≥15MQ.CM) (傳統(tǒng)工藝)
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