rc-666環(huán)保鍍銅

一、特點(diǎn)

1、適合于鋅合金、鋁合金、釹鐵硼及鋼基材的打底鍍層。

2、易操作，滾鍍及掛鍍皆宜。

二、溶液組成及操作條件

項(xiàng) 目

操作條件

rc-666a環(huán)保鍍銅開缸a劑

500毫升/升

溫度

45-55℃

ph

鐵基材11-13；鋅合金10-12

電流密度

0.5-3安培/平方分米

陽(yáng)極

電解銅+不銹鋼陽(yáng)極

攪拌

滾動(dòng)或機(jī)械搖擺

過濾

連續(xù)過濾

三、生產(chǎn)維護(hù)

1、生產(chǎn)過程中銅離子控制在8-12克/升，銅離子含量可采用化學(xué)分析來(lái)測(cè)定，并通過 調(diào)節(jié)石墨陽(yáng)極與電解銅的陽(yáng)極面積比例來(lái)進(jìn)行管控。

2、rc-666a環(huán)保鍍銅開缸劑只在新開槽時(shí)使用，日常生產(chǎn)只需添加rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。

3、rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑可通過分析補(bǔ)充，。

4、ph值控制：調(diào)高ph用10%氫氧化鉀溶液，調(diào)低ph用酒石酸。

5、銅離子不足時(shí)，鍍層高區(qū)粗糙，沉積速度下降，可通過提高電解銅陽(yáng)極面積比例來(lái)提高銅離子濃度。

6、銅離子過量時(shí)，鍍層低區(qū)粗糙，可適量補(bǔ)充rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。

7、rc-666b不足時(shí)，鍍層低區(qū)粗糙，可適量補(bǔ)充rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。

8、rc-666b過量時(shí)，沉積速度下降，可適量提高銅離子濃度。

9、若因前序工序或原材料帶入的異金屬或有機(jī)物雜質(zhì)，造成鍍層發(fā)暗發(fā)灰，可以用活性炭處理，。

四、儲(chǔ)存

存放于陰涼干燥處，不得與強(qiáng)酸性物質(zhì)混放；高溫下或遇強(qiáng)酸性物質(zhì)會(huì)發(fā)生反應(yīng)，生成有毒害物質(zhì)。

五、廢水處理

1、廢水排放按常規(guī)破絡(luò)合劑方法進(jìn)行處理，詳細(xì)方案請(qǐng)咨詢本公司技術(shù)部。

2、未經(jīng)處理廢水不得與強(qiáng)酸性物質(zhì)混排，否則會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成有毒害物質(zhì)。

3、泄露應(yīng)急處理：發(fā)生廢水泄露時(shí)，用適量氯酸鈣或硫酸亞鐵充分反應(yīng)后排放至廢水池。

注：rc-666a、rc-666b存放期間產(chǎn)生分層、沉淀或變色，屬正?，F(xiàn)象，搖勻后使用，不影響效果。