氮化鈦涂層是自PVD技術發(fā)明以來，常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是在過去的年份中運用廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。

客戶需要根據(jù)產(chǎn)品特性和要求來決定采用何種方法獲得氮化鈦（TIN）涂層。勝倍爾鍍膜的鍍膜機自身帶有增強型磁控濺射和磁控陰極弧兩種方法，可以靈活根據(jù)工件來選擇不同的方法獲得氮化鈦（TiN）涂層。

氮化鉻是什么

中文名稱氮化鉻

CAS 2053-27-9

英文名稱 chromium nitride

英文別名 Chromium nitride (Cr2N); Chromium nitride; Dichromium nitride; chromic nitrogen(-3) anion[1]

EINECS 246-016-3

PVD的全寫為Physical Vapor Deposition,中文翻譯為物相沉積。

采用陰極電弧等離子體沉積技術。陰極電弧等離子體沉積是相對較新的薄膜沉積技術，它在許多方面類似于離子鍍技術。其優(yōu)點：在發(fā)射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動能（40-100eV)。許多離子束沉積的優(yōu)點，如提粘著力，增加態(tài)密度、對化合物膜形成具有高反應率等優(yōu)點在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現(xiàn)。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨特優(yōu)點，如可在較多復雜形狀基片上進行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學配比的化合物或合金。

通過蒸發(fā)過程將陰極材料蒸發(fā)是源于高電流密度，所得到的蒸發(fā)物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰極電弧點，材料幾乎百分百被離化，這里離子在幾乎垂直于陰極表面的方向發(fā)射出去，當帶有高能量的鉻離子碰到氮氣后便會馬上產(chǎn)生化學反應，變成氣態(tài)的氮化鉻分子了。