拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。本產品性能穩(wěn)定、，對環(huán)境無污染等作用。

硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。

1、 增加生產量， 操作人員不再需要中斷拋光工作,可以自動的控制拋光液的噴涂。

2、 節(jié)省操作時間,提高產能。

3、 節(jié)省清洗時間， 拋光液是水性的配方, 拋光后工程的清洗工序更容易,可以節(jié)省的清洗時間。

4、 拋光輪壽命增加， 噴涂液體研磨劑對研磨輪之輪緣表面溫度有冷卻作用。

5、 大大減低 研磨輪的損耗， 從而增加研磨輪的壽命。

6、 增加產品的穩(wěn)定性能， 避免了人手操作的不確定性。