中性清洗
別看只是清洗，卻很有講究。清洗劑要使用中性的，因?yàn)閴A性的清潔劑會(huì)腐蝕車漆，如果殘存在車體縫隙中，腐蝕性就更大了，建議您使用中性洗車劑，避免傷害車漆。
粘土打磨
由于長(zhǎng)期積存的塵土、膠質(zhì)、飛漆等臟污很難靠清洗來(lái)去除，因此經(jīng)過(guò)清洗的車漆表面仍然是毛毛糙糙的，這就需要用一種從細(xì)膩火山灰中提煉出來(lái)的“去污粘土”進(jìn)行的打磨處理。
深度清理
就像人皮膚上的毛孔需要清理一樣，車漆的毛孔也需要清潔。使用靜電拋光輪，配以增艷劑，在旋轉(zhuǎn)的同時(shí)產(chǎn)生靜電，將毛孔內(nèi)的臟物吸出。同時(shí)，增艷劑滲透到車漆內(nèi)部，發(fā)生還原反應(yīng)，可以達(dá)到車漆增艷如新的效果。拋磨的另外一個(gè)功效是可將車漆表面細(xì)小的軟道劃痕磨平。
氧化硅拋光液氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。
半導(dǎo)體行業(yè) CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題，它是可以在整個(gè)硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實(shí)的金屬光澤。性能穩(wěn)定、，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。
拋光液作為金屬加工液檢測(cè)種類的重要一員，對(duì)金屬表面的打磨處理，滿足平坦化需求起著關(guān)鍵性的作用。拋光液適用于鉛錫合金， 銅， 鋅合金， 不銹鋼， 鋁合金， 鐵等金屬零部件的拋光， 光亮度可達(dá) 12 級(jí)， 可取代多種進(jìn)口拋光劑和拋光粉。
封釉的作業(yè)時(shí)間大約需要4～5個(gè)小時(shí)，以下是封釉的五道工序：
中性清洗
別看只是清洗，卻很有講究。清洗劑要使用中性的，因?yàn)閴A性的清潔劑會(huì)腐蝕車漆，如果殘存在縫隙中，腐蝕性就更大了，建議您使用中性洗劑。
粘土打磨
由于長(zhǎng)期積存的塵土、膠質(zhì)、飛漆等臟污很難靠清洗來(lái)去除，因此經(jīng)過(guò)清洗的表面仍然是毛毛糙糙的，這就需要用一種從細(xì)膩火山灰中提煉出來(lái)的“去污粘土”進(jìn)行的打磨處理。
深度清理
就像人皮膚上的毛孔需要清理一樣，毛孔也需要清潔。使用靜電拋光輪，配以增艷劑，在旋轉(zhuǎn)的同時(shí)產(chǎn)生靜電，將毛孔內(nèi)的臟物吸出。同時(shí)，增艷劑滲透到車漆內(nèi)部，發(fā)生還原反應(yīng)，可以達(dá)到增艷如新的效果。拋磨的另外一個(gè)功效是可將表面細(xì)小的軟道劃痕磨平。
無(wú)論使用封釉1號(hào)、2號(hào)、精鋼釉中的任何一種，或者混合使用，能在機(jī)器拋之前均勻的分布到地面上?？梢允褂脻L筒、毛刷，也可以想其他方法。
實(shí)際操作中，我們建議大家可分布的更均勻一些。一些熟練工人用這種方法拋VD精鋼釉，做出來(lái)的效果又潤(rùn)又亮，能夠真正發(fā)揮出封釉技術(shù)的各種優(yōu)點(diǎn)。
3、遍、第二遍、第三遍，操作不同
封釉有個(gè)特點(diǎn)：由于它是物理覆蓋作用，它在拋遍的時(shí)候，要先填補(bǔ)石材表面的納米級(jí)、微米級(jí)的凹凸不平。根據(jù)這種現(xiàn)象，想要使用封釉做出好效果，有如下技巧：
遍：封釉量放足一些，啟動(dòng)晶面機(jī)+封釉墊，均勻拋磨。但是不要拋干。并且等待10~15分鐘，再拋第二遍。
第二遍：用量遞減。啟動(dòng)晶面機(jī)+封釉墊，均勻拋磨。注意也不要拋干。然后再等待10~15分鐘，再拋第三遍。
第三遍：用量遞減。啟動(dòng)晶面機(jī)+封釉墊，均勻拋磨，拋干至出光即可。