一、地坪拋光液的概述：

生產(chǎn)的濃縮型滲透光亮劑，是采用了源自德國的特種高分子材料，極其耐用，可以抗磨損、防刮傷、防刻劃的功能，用途非常廣泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等為基礎表面拋光。它的特點就是滲入地坪，在干燥的過程中和混凝土粘結在一起，干燥后經(jīng)過物理拋光，能賦予地坪超亮的光澤的同時，還能提高表面的防水、防塵、抗污保潔和抗磨性能。

二、地坪拋光液的適用范圍：

金剛砂耐磨地坪、混凝土密封固化地坪、水磨石地坪、大理石等產(chǎn)品的表面拋光之用。

拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液，它在拋光工藝中有重要的地位，合理選擇拋光液，能使加工出來的工件表面光亮美觀，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。去除油污，軟化工件表面以加速磨消，減少磨具對工件的沖擊，改善工件條件。它具有，無腐蝕，不易變質(zhì)等性能。

拋光液的種類很多，應根據(jù)加工條件來選擇。在光整效率，工作的研磨質(zhì)量，拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨特的效果。

（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。

硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。

多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。

主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。