這種方法制出的PN結均勻性好,方塊電阻的不均勻性小于百分之十,少子壽命可大于10ms。制造PN結是太陽電池生產(chǎn)基本也是關鍵的工序。因為正是PN結的形成,才使電子和空穴在流動后不再回到原處,這樣就形成了電流,用導線將電流引出,就是直流電。
拋光硅表面的反射率為35%,為了減少表面反射,提高電池的轉(zhuǎn)換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設備制備減反射膜。PECVD即等離子增強型化學氣相沉積。它的技術原理是利用低溫等離子體作能量源,樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電使樣品升溫到預定的溫度,然后通入適量的反應氣體SiH4和NH3,氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應,在樣品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。
將單晶硅棒切成片,一般片厚約0.3毫米。硅片經(jīng)過拋磨、清洗等工序,制成待加工的原料硅片。加工太陽能電池片,首先要在硅片上摻雜和擴散,一般摻雜物為微量的硼、磷、銻等。擴散是在石英管制成的高溫擴散爐中進行。這樣就硅片上形成P>N結。
硅片,簡單來講就是用硅制成的片,所以叫硅片,它主要是用在晶體硅光伏電池中,它質(zhì)量方面的要求是很高的,表面不能有損傷等缺陷,比如彎曲、凹凸或者厚度不均勻等。并且硅在切割過程中,要注意切割方式和方法,盡量減少硅原料的消耗量。