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硅面平整化之后，表面會(huì)有研磨液研磨之后的顆粒殘留，會(huì)大大影響成品率，所以 還需要使用清洗液對(duì)表面進(jìn)行清洗，業(yè)界主要使用的方法有機(jī)械刷片法和超聲波清洗法。機(jī)械刷片法使用聚乙烯醇制成的刷子，可以有效去除硅片表面殘留物且不損 傷硅片表面，但對(duì)去除金屬雜質(zhì)作用不突出。毛刷與硅片轉(zhuǎn)速、毛刷與硅片之間的 壓力都是影響終清洗效果的重要因素。超聲波清洗利用幾百至幾千壓強(qiáng)的微激波 擊碎殘留物，同時(shí)使有機(jī)物迅速分解乳化。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是速度快，適用于去除 大顆粒殘留，但對(duì)小于1um的顆粒殘留清洗效果下降。聲波的頻率、能量、清洗液 的化學(xué)成分以及濃度是影響清洗效果的主要因素。

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