日本原裝光馳OTFC-1300MM帶涉頻源含安裝鍍膜機 光學(xué)機
1. 用途:此真空鍍膜機是鍍制防污膜(AS膜)及防反射膜+防污膜(AF+AS膜)型光學(xué)鍍膜機,應(yīng)用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性,運動模式的膜均勻性好,鍍層的臺階覆蓋性能好,承載能力大,可充分利用有效空間的真空鍍膜室,是一個運動的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機械泵,擴散泵,管道和閥門組成。為了提高泵的流量,可以添加增壓器之間的機械泵和擴散泵。因此,不僅在較短的時間內(nèi)低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng),還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測量真空薄膜的厚度和控制
3.特征:磁密封驅(qū)動的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布
4.配備:配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性;用于防污膜(AS 膜)批量生產(chǎn);防污膜(AS 膜)批量生產(chǎn)。
5.性能:達到壓強7.0E-5Pa以下
6.配置參數(shù):
真空室 Ф2350mm×H 1400mm
基板架 Ф2200 mm
基板架轉(zhuǎn)速 20rpm
晶振式膜厚計 6點式?晶傳感器
蒸發(fā)源電?槍1臺,熱阻蒸達到壓強 7.0E-5Pa 以下
排強時間 15分以下(壓強?2.0×10-3 Pa)
7.工作條件:
設(shè)備尺寸約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)
電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA
水流量 220升/分以上
空氣壓力 0.5-0.7mpa
重量約12000kg
訂購說明
機器設(shè)備,檢測設(shè)備等大型機器設(shè)備線下交易
1、可聯(lián)系銷售人員到工廠看機,簽訂機器購買合同,付合同定金,進行試機
2、若不方便到工廠看機器,可聯(lián)系銷售人員,簽訂合同,可讓銷售人員拍攝機器工作視頻進行確認,全款發(fā)貨
因設(shè)備面對全國客戶,設(shè)備價格不含運費,不含稅,含稅可另外說明,加10點增值稅
工廠,3天之內(nèi)發(fā)貨,可協(xié)助裝車叫物流運輸,李小姐 熱線13580815590