日本原裝光馳OTFC-1300MM帶涉頻源含安裝鍍膜機 光學(xué)機

1. 用途：此真空鍍膜機是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學(xué)鍍膜機，應(yīng)用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，運動模式的膜均勻性好，鍍層的臺階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個運動的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機械泵，擴散泵，管道和閥門組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機械泵和擴散泵。因此，不僅在較短的時間內(nèi)低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng)，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測量真空薄膜的厚度和控制

3.特征：磁密封驅(qū)動的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布

4.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)。

5.性能：達到壓強7.0E-5Pa以下

6.配置參數(shù)：

真空室 Ф2350mm×H 1400mm

基板架 Ф2200 mm

基板架轉(zhuǎn)速 20rpm

晶振式膜厚計 6點式?晶傳感器

蒸發(fā)源電?槍1臺，熱阻蒸達到壓強 7.0E-5Pa 以下

排強時間 15分以下（壓強?2.0×10-3 Pa）

7.工作條件：

設(shè)備尺寸約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)

電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA

水流量 220升/分以上

空氣壓力 0.5-0.7mpa

重量約12000kg

訂購說明

機器設(shè)備，檢測設(shè)備等大型機器設(shè)備線下交易

1、可聯(lián)系銷售人員到工廠看機，簽訂機器購買合同，付合同定金，進行試機

2、若不方便到工廠看機器，可聯(lián)系銷售人員，簽訂合同，可讓銷售人員拍攝機器工作視頻進行確認，全款發(fā)貨

因設(shè)備面對全國客戶，設(shè)備價格不含運費，不含稅，含稅可另外說明，加10點增值稅

工廠，3天之內(nèi)發(fā)貨，可協(xié)助裝車叫物流運輸，李小姐 熱線13580815590