不管是從事哪個(gè)行業(yè)的玻璃廠家，都得需要會(huì)拋光技術(shù)，但是有哪幾種拋光法和它的注意事項(xiàng)是什么呢？而我們光學(xué)濾光片行業(yè)也是一樣的道理，也得需要拋光技術(shù)的支持，接下來(lái)我們飛宇達(dá)光電公司給大家講講拋光技術(shù)的方法及其注意事項(xiàng)。

(1) 浴法拋光：浴法拋光是指工件和拋光盤都浸在拋光液中，所用裝置示意圖拋光液的深度以設(shè)備靜止時(shí)淹沒(méi)工件 10～15mm 為宜，攪拌器是使拋光液處于懸浮狀態(tài)，不產(chǎn)生沉淀，拋光玻璃時(shí)一般使用氧化鐵(紅粉)、氧化鋁等拋光材料。

(2) 離子束拋光：離子束拋光是玻璃工件在傳統(tǒng)拋光后，用來(lái)進(jìn)一步提高拋光精度的補(bǔ)充拋光方法。先在真空(1.33Pa)條件下，將惰性氣體(氬、氪、氙等)原子使用高頻或放電等方法使之成為離子，再用20～25kV的電壓加速，然后碰撞到位于1.33×10 Pa真空度的真 空室內(nèi)的被加工工件表面上，將能量直接傳給工件材料原子，使其逸出表面而被去除。這種方法可以使工件去除厚度達(dá)10～20μm，是典型的用物理碰撞方法進(jìn)行的拋光技術(shù)，一般情況下表面粗糙度可達(dá)0.01μm，精度高的達(dá)0.6nm。

(3) 等離子體輔助拋光：等離子體輔助拋光是利用化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除表面材料而實(shí)現(xiàn)拋光的方法，采用特定氣體，制成活性等離子體，當(dāng)活性等離子體與工件表面作用，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成易揮發(fā)的混合氣體，從而將工件表面材料去除。由于玻璃研磨時(shí)，機(jī)械作用是主要的，所以磨料的硬度大于玻璃的硬度。 光學(xué)玻璃和日用玻璃研磨加工余量大，所以一般用剛玉或天然金剛砂研磨。平板玻璃的研磨加工余量小，但面積大，用量多，一般采用的石英砂。常用拋光材料有紅粉（氧化鐵）、氧化鈰、氧化鉻、氧化鋯、氧化釷等，日用玻璃加工也有采用長(zhǎng)石粉的。光學(xué)產(chǎn)品新型拋光技術(shù)對(duì)于光學(xué)玻璃加工，傳統(tǒng)的研磨及拋光方法，從精度和效率方面已不適應(yīng)。目前發(fā)展了許多新的加工技術(shù)，如數(shù)控研磨和拋光技術(shù)、離子束拋光技術(shù)、應(yīng)力盤拋光技術(shù)、超光滑表面加工技術(shù)、延展性磨削加工、彈性發(fā)射拋光法、激光拋光、震動(dòng)拋光等，這些新技術(shù)，已 完全適應(yīng)光學(xué)領(lǐng)域迅猛發(fā)展的要求。光學(xué)透鏡新的加工技術(shù)，都邊檢測(cè)、邊修正，不僅加工精度高，而且加工速度提高幾倍到幾十倍，對(duì)人工技術(shù)的依賴性已很小，新研磨和拋光技術(shù)的智能化程度都很高，重復(fù)精度高。數(shù)控研磨和拋光、應(yīng)力盤拋光技術(shù)等，針對(duì)球面和 非球面光學(xué)透鏡的加工，非?；?/span>

看完以上小編所講解的關(guān)于光學(xué)玻璃的拋光方法，您應(yīng)該大概都了解一些了