鈀催化劑雖然具有活性高、選擇性好的性能，但是硫化物、砷化物、一氧化碳、等雜質(zhì)，以及副反應(yīng)生成的各種重組分、焦質(zhì)等會(huì)使鈀催化劑中毒，活性和選擇性下降，直到?jīng)]有催化活性，這種過(guò)程稱為失活過(guò)程。為了保持鈀催化劑的高活性，就需要在原料中減少或除去這些有害物。但在鈀催化劑的使用過(guò)程中也會(huì)有因催化劑本身顆粒聚集、晶格變化等原因而活性下降，這就需要對(duì)失活的催化劑進(jìn)行再生活化，活化的方法類似于制造過(guò)程的焙燒和活化。重新恢復(fù)活性的鈀催化劑可以重新進(jìn)行使用，直到完全失去活性，不能再生。這個(gè)使用過(guò)程就是催化劑的壽命，鈀催化劑是長(zhǎng)壽催化劑，可以經(jīng)受多次再生活化，壽命可到數(shù)年。失活的鈀催化劑一般要對(duì)金屬鈀進(jìn)行回收，回收的方法是用硝酸將廢催化劑上的鈀溶解成硝酸鈀，然后再通過(guò)各種凈化提純步驟，氫氣還原成金屬鈀，再用作新的鈀催化劑的制造。

ITO，全稱為氧化銦錫（Indium Tin Oxide），是一種廣泛應(yīng)用于光電領(lǐng)域的透明導(dǎo)電材料。由于其優(yōu)異的電導(dǎo)率和透明度，ITO靶材被廣泛用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池等各種電子器件的制造中。其主要成分是銦氧化物（In2O3）和錫氧化物（SnO2），具有高度的折射率和透明性，適用于要求透明導(dǎo)電性能的應(yīng)用。

ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學(xué)氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過(guò)濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過(guò)氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見(jiàn)。

貴金屬?gòu)U料經(jīng)預(yù)處理后通常采用火法冶金和濕法冶金方法進(jìn)行回收和精煉。由于濕法冶金適應(yīng)性強(qiáng)，金屬回收率高，因而一般的回收廠都選用濕法冶金方法。

礦漿的酸堿度往往直接或間接地影響著含金銀礦物的可浮選性。金銀礦物的浮選多半在堿性礦漿介質(zhì)中進(jìn)行,但對(duì)于浮選某些含金黃鐵礦和磁黃鐵礦，適于在弱酸性礦漿介質(zhì)中進(jìn)行。

氧氣對(duì)受到不同程度氧化的含金銀硫化礦的浮選過(guò)程有影響，例如某廠浮選含金銀硫化礦時(shí)，使用含大量有機(jī)物質(zhì)又缺氧的湖水，浮選效果不好，經(jīng)過(guò)攪拌充氣后，獲得穩(wěn)定的礦化泡沫，金的回收率提高10%.