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    2025-01-23 05:34:02 258次瀏覽
    價(jià) 格:面議

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    ITO靶材的制備通常采用物相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)等方法。PVD法通過(guò)濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上,形成ITO薄膜。CVD法則是通過(guò)氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜,但PVD法更為常見(jiàn)。

    隨著科技的不斷進(jìn)步,電子行業(yè)在過(guò)去的幾十年里得到了迅猛發(fā)展。然而,電子廢棄物的處理問(wèn)題也日益凸顯。其中,鍍金料的處理成為了一個(gè)焦點(diǎn)問(wèn)題。本文將探討鍍金料回收對(duì)環(huán)境保護(hù)的意義,希望引起大家的關(guān)注。

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