工業(yè)反滲透設(shè)備工藝

工業(yè)反滲透設(shè)備需要根據(jù)實際用水要求配置不同的工藝流程，各行業(yè)的用水標(biāo)準(zhǔn)不同，如電阻分為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標(biāo)準(zhǔn)，電導(dǎo)率從20uS/cm-0.1uS/cm不等，因此需要針對不同標(biāo)準(zhǔn)配置不同的預(yù)處理系統(tǒng)、單級雙級反滲透工藝，后處理系統(tǒng)（EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光混床系統(tǒng)、紫外線sha菌、臭氧發(fā)生器、二氧化氯等）。

全自動RO反滲透凈水設(shè)備適用于：醫(yī)院、學(xué)校機關(guān)、電子化工產(chǎn)業(yè)、食品飲料行業(yè)、石油化工、制藥、冶金、畜牧等對水質(zhì)要求較高的行業(yè)領(lǐng)域。

各行業(yè)對純水水質(zhì)要求的標(biāo)準(zhǔn)

1.動物飲用純水(醫(yī)藥)、普通化工原料配料用純水、食品行業(yè)配料用純水、普通電鍍行業(yè)沖洗用去離子純水、紡織印染用除硬脫鹽純純水、聚脂切片用純純水、精細(xì)化工用純水、民用飲用純凈純水用純水、其它有相同純水質(zhì)要求的用純水

電導(dǎo)率小于等于10μS/CM

2.電鍍化學(xué)品生產(chǎn)用純水、化工行業(yè)表面活性劑生產(chǎn)用純水、醫(yī)用純化純水、白酒生產(chǎn)用純純水、啤酒生產(chǎn)用純純水、民用飲用純凈純水用純水、普通化妝品生產(chǎn)用純水、血透純純水機用純水、其它有相同純水質(zhì)要求的用純水. （可選用EDI設(shè)備或離子交換混床設(shè)備）

電導(dǎo)率≤4μS/CM

3.鋰電池、蓄電池、化妝品生產(chǎn)用純水、電廠鍋爐用純純水、化工廠配料用純水

電阻率：5-10兆歐.CM

4.動物實驗室用純水、玻殼鍍膜沖洗用純水、電鍍用純純水、鍍膜玻璃用純水、其它有相同純水質(zhì)要求的用純水

電阻率:10~15MΩ.CM

5.醫(yī)藥生產(chǎn)用無菌純水、口服液用純水、高級化妝品生產(chǎn)用去離子純水、電子行業(yè)鍍膜用純水、光學(xué)材料清洗用純水、電子陶瓷行業(yè)用純純水、磁性材料用純純水、其它有相同純水質(zhì)要求的用純水.

電阻率≥15 MΩ.CM

6.磁性材料鍋爐用軟化純水、敏感新材料用純水、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)用純水、金屬材料用純水、防老化材料實驗室用純水、有色金屬，貴金屬冶煉用純水、鈉米級新材料生產(chǎn)用純水、航空新材料生產(chǎn)用純水、太陽能電池生產(chǎn)用純水、純水晶片生產(chǎn)用純水、超純化學(xué)試劑生產(chǎn)用純水、實驗室用高純純水、其它有相同純水質(zhì)要求的用純水.

電阻率≥17 MΩ.CM

7.導(dǎo)電玻璃制造用純水、化驗室用純水、電子級無塵布生產(chǎn)用純水等其它有相同純水質(zhì)要求的用純水。

反滲透膜清洗服務(wù)

反滲透裝置盡管采用了合理的預(yù)處理系統(tǒng)，和良好的運行管理，它只能使反滲透膜的污染程度降到低限度，要完全消除膜的污染是不可能的。因此，反滲透裝置在正常運行一段時間之后，將受到各種微量有機物、無機物的污染。當(dāng)膜受到污染后，往往會出現(xiàn)反滲透裝置的產(chǎn)水量、脫鹽率和裝置進出口壓力降增大等明顯征狀。當(dāng)裝置的產(chǎn)水量下降10％（在同溫度和壓力下），鹽透過量增加一倍，壓降增加一倍，這三種現(xiàn)象出現(xiàn)其中一個時，進行化學(xué)清洗是必要的。同時當(dāng)反滲透裝置需要長期停用而進行保護之前，也需要進行化學(xué)清洗。值得注意的是，如果進水溫度降低也會導(dǎo)致產(chǎn)水量下降，這是正常的，并不表明膜被污染，預(yù)處理、高壓等方面產(chǎn)生故障也會導(dǎo)致進水壓力、進水流量、產(chǎn)水流量和脫鹽率的下降。化學(xué)清洗時，首先是要判斷污染物的種類，然后根據(jù)膜的特性選擇合適的清洗配方和清洗工藝。要注意控制清洗液的PH值、溫度和每根組件的進入流量，清洗效果可以通過比較清洗前后裝置的脫鹽率、產(chǎn)水量和壓力降等性能來確認(rèn)，除了周期性的化學(xué)清洗之外，

每次停車之后，用預(yù)處理水或反滲透水進行低壓大流量沖洗，這對于降低膜污染的速度，延長化學(xué)清洗的周期和膜的使用壽命是有效的。