半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

凈室是一種以合理的成本開發(fā)高質(zhì)量軟件的基于理論、面向工作組的方法。凈室是基于理論的，因為堅實的理論基礎是任何工程學科所不可缺少的。再好的管理也代替不了理論基礎。凈室是面向工作組的，因為軟件是由人開發(fā)出來的，并且理論必須簡化到實際應用才能引導人的創(chuàng)造力和協(xié)作精神。凈室是針對經(jīng)濟實用軟件的生產(chǎn)的，因為在現(xiàn)實生活中，業(yè)務和資源的限制必須在軟件工程中予以滿足。后，凈室是針對高質(zhì)量軟件的生產(chǎn)的，因為高質(zhì)量改進管理，降低風險及成本，滿足用戶需求，提供競爭優(yōu)勢。

工業(yè)廠房，指直接用于生產(chǎn)或為生產(chǎn)配套的各種房屋，包括主要車間、輔助用房及附屬設施用房。凡工業(yè)、交通運輸、商業(yè)、建筑業(yè)以及科研、學校等單位中的廠房都應包括在內(nèi)。工業(yè)廠房除了用于生產(chǎn)的車間，還包括其附屬建筑物。

在一個建設場地內(nèi)，確定各廠房設計方案時，宜使構(gòu)配件的類型統(tǒng)一。

在技術經(jīng)濟合理的基礎上，廠房的體形應力求簡單，避免設置縱橫跨和多跨廠房中的高度差。

在編制廠房建筑構(gòu)配件標準設計圖集時，應使用途相同的構(gòu)配件具有限度的互換性。

廠房建筑設計除應符合本標準的有關規(guī)定外，還應符合現(xiàn)行有關國家標準的規(guī)定。