KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調(diào)節(jié)及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

小型蒸鍍儀鄭州科探儀器技術資料

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1200W

輸出電壓電流

電壓≤12V 電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

≤1800℃

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）

數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）

分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）