真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線(xiàn)對(duì)所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點(diǎn)。

真空爐技術(shù)指標(biāo)：

石英管真空室：1—3室

真空度：1Pa，加擴(kuò)散泵為5x10-3Pa

工作溫度： <1300℃

控溫精度： ±1℃

等溫區(qū)長(zhǎng)度：根據(jù)工藝要求

口徑：Φ80mm～Φ280mm

控制方式：程控、微控