電氣性能的優(yōu)化可從如下方面考慮,即對(duì)已經(jīng)存在和即將形成的位于接觸鍍層表面薄膜的控制。排針電氣性能的一個(gè)主要需求是建立和維持穩(wěn)定的排針阻抗。為達(dá)到這個(gè)目的,需要一 個(gè)金屬接觸界面以提供這樣的固有穩(wěn)定性。建立這樣的接觸界面需要表面薄膜能在接觸配合的時(shí)候避開(kāi)或分裂。這兩種不同的選擇明確了貴金屬或稀有金屬和普通金屬之間的區(qū)別。

在不同程度上，貴金屬鍍層(如金,鈀以及它們的合金)其本質(zhì)對(duì)表面薄膜來(lái)說(shuō)是游離的。對(duì)這些鍍層來(lái)說(shuō)產(chǎn)生界面的金屬接觸相對(duì)較簡(jiǎn)單,因?yàn)樗鼉H僅需要接觸表面的伴隨物在配合時(shí)的移動(dòng)。通常這很容易實(shí)現(xiàn)。為維持接觸界面阻抗的穩(wěn)定性,排針設(shè)計(jì)要求應(yīng)注意保持接觸表面貴金屬性以防止外在因素如污染物、基材金屬的擴(kuò)散以及接觸磨損的影響。

普通金屬鍍層,特別是錫或錫合金,其表現(xiàn)都自然要蓋有一層氧化薄膜。錫接觸鍍層的作用,是因?yàn)檫@層氧化物容易在配合時(shí)候被破壞，這樣金屬接觸就容易被建立起來(lái)。排針設(shè)計(jì)的需求是能保證氧化膜在排針配合時(shí)破裂,而在電連執(zhí)著器的有效期內(nèi)確保接觸界面不再被氧化。再氧化腐蝕,在磨損腐蝕中,是錫接觸鍍層主要的性能退化機(jī)理。銀接觸鍍層被當(dāng)作是普通金屬鍍層,因?yàn)樵撳儗尤菀资艿搅蚧锖桶被锏母g。由于氣閥經(jīng)物的形成通常也把鎳鍍層當(dāng)作是普通金屬。